鉭靶材
用途：主要應(yīng)用于半導(dǎo)體鍍膜和光學(xué)鍍膜。
純度：99.95%～99.99%。
規(guī)格：方靶材，厚度x寬度x長度=5～25x≤800x≤2000（mm）
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